| 1. Identificação | |
| Tipo de Referência | Artigo em Revista Científica (Journal Article) |
| Site | mtc-m16b.sid.inpe.br |
| Código do Detentor | isadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S |
| Identificador | 6qtX3pFwXQZGivnK2Y/NvkJr |
| Repositório | sid.inpe.br/mtc-m17@80/2006/12.19.11.36 (acesso restrito) |
| Última Atualização | 2006:12.19.11.36.47 (UTC) marciana |
| Repositório de Metadados | sid.inpe.br/mtc-m17@80/2006/12.19.11.36.48 |
| Última Atualização dos Metadados | 2021:07.28.22.28.26 (UTC) administrator |
| Chave Secundária | INPE-14453-PRE/9523 |
| ISSN | 0734-2101 |
| Chave de Citação | RodriguesPrioFrei:2006:EfGrCo |
| Título | Effects of the growth conditions on the roughness of amorphous hydrogenated carbon films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition  |
| Ano | 2006 |
| Mês | Nov./Dec. |
| Data de Acesso | 17 maio 2024 |
| Tipo Secundário | PRE PI |
| Número de Arquivos | 1 |
| Tamanho | 221 KiB |
| 2. Contextualização | |
| Autor | 1 Rodrigues, Gil Capote 2 Prioli, R. 3 Freite Júnior, F. L. |
| Grupo | 1 LAS-INPE-MCT-BR |
| Afiliação | 1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 2 Departamento de Física, Pontifícia Universidade Católica do Rio de Janeiro (PUC-RJ) 3 Departamento de Física, Pontifícia Universidade Católica do Rio de Janeiro (PUC-RJ) |
| Revista | Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films |
| Volume | 26 |
| Número | 6 |
| Páginas | 2212-2216 |
| Histórico (UTC) | 2006-12-19 11:36:49 :: simone -> administrator :: 2008-06-29 02:30:08 :: administrator -> simone :: 2011-05-24 04:01:20 :: simone -> administrator :: 2012-07-13 21:51:55 :: administrator -> banon :: 2006 2012-09-27 18:33:03 :: banon -> administrator :: 2006 2012-11-24 01:39:55 :: administrator -> simone :: 2006 2013-02-20 15:19:56 :: simone -> administrator :: 2006 2014-08-15 01:39:27 :: administrator -> marciana :: 2006 2014-08-20 13:14:20 :: marciana -> administrator :: 2006 2021-07-28 22:28:26 :: administrator -> marciana :: 2006 |
| 3. Conteúdo e estrutura | |
| É a matriz ou uma cópia? | é a matriz |
| Estágio do Conteúdo | concluido |
| Transferível | 1 |
| Tipo do Conteúdo | External Contribution |
| Tipo de Versão | publisher |
| Resumo | The surface roughness and scaling behavior of a-C:H films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition from CH4Ar mixtures were studied using atomic force microscopy. Raman spectroscopy gives some insights about the film microstructure. The film surface roughness is shown to decrease with the increase of deposition negative self-bias, while the presence of Ar ions enhances this effect. An analysis of the film surface and scaling behavior suggests that there is a transition of the mechanism of the film growth from a random deposition with surface diffusion process to a thermal spike based process that occurs upon the increase of the negative self-bias voltage and the argon bombardment. |
| Área | FISMAT |
| Arranjo | urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAS > Effects of the... |
| Conteúdo da Pasta doc | acessar |
| Conteúdo da Pasta source | não têm arquivos |
| Conteúdo da Pasta agreement | não têm arquivos |
| 4. Condições de acesso e uso | |
| Idioma | en |
| Arquivo Alvo | Effects of growth conditions.pdf |
| Grupo de Usuários | administrator banon marciana simone |
| Grupo de Leitores | administrator marciana |
| Visibilidade | shown |
| Detentor da Cópia | SID/SCD |
| Política de Arquivamento | denypublisher allowfinaldraft |
| Permissão de Leitura | deny from all and allow from 150.163 |
| Permissão de Atualização | não transferida |
| 5. Fontes relacionadas | |
| Unidades Imediatamente Superiores | 8JMKD3MGPCW/3ESR3H2 |
| Lista de Itens Citando | sid.inpe.br/bibdigital/2013/09.24.19.30 3 |
| Divulgação | PORTALCAPES; COMPENDEX. |
| Acervo Hospedeiro | lcp.inpe.br/ignes/2004/02.12.18.39 cptec.inpe.br/walmeida/2003/04.25.17.12 |
| 6. Notas | |
| Campos Vazios | alternatejournal archivist callnumber copyright creatorhistory descriptionlevel doi e-mailaddress electronicmailaddress format isbn keywords label lineage mark mirrorrepository nextedition notes orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project resumeid rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarymark session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype typeofwork url |
| 7. Controle da descrição | |
| e-Mail (login) | marciana |
| atualizar | |